3温度高純度石英管炉

これは、最高温度 1100°C (<0.5°C) の 3 ゾーンの開放型管状炉です。炉管は高純度石英製です。この装置には一対のステンレス鋼シール フランジが装備されており、真空または保護雰囲気のいずれかでサンプルを熱処理できます。温度制御システムにより、±1℃の制御精度で 50 のプログラム可能なランプが可能になります。

炉の構造:

※空冷二重シェル構造
*炉室は高純度アルミナファイバーで構成されており、エネルギー損失を最小限に抑えます。
※設置後、炉室内を高純度アルミナコーティングで再コーティングし、反射率と加熱効率を向上させ、機器の寿命を延ばします。
※炉室は上から下に開き、電源オフ機能付きです。
*炉エンドキャップとバッフルリングは直径180mmで、直径180 x 1000mmまでの炉管に対応できます。炉のエンドキャップと圧力リングには、石英管をサポートする 4 x 50 mm のパイププラグが装備されています。 50mm石英管を4本設置可能です。

炉キャビネットの外部寸法:

※炉棚高さ700mm以下
※炉棚の奥行きは700mm以下
※炉棚上部（炉蓋）の長さは700mm以下、下部（スイッチ、温度表示器、流量計等が設置されている部分）は1000mm以下としてください。
※フロート流量計は炉本体に12個設置されており、レンジは0.2～2L/minです。独立した空気入口ポートと出口ポートが提供されます。

温度制御システム:
・YD858温度コントローラー付属
・PID制御とオートチューニング
·インテリジェントな50セグメントプログラマブルコントロール
・温度制御精度：±1℃
・3つの温度コントローラーで3つの温度帯を独立制御
·システムは、リアルタイムで温度値を記録し、データを保存するタッチスクリーンインターフェイスを備えています。
・主電源スイッチとガス流量調整を除くすべてのコントロールがタッチスクリーンに統合されています。
・実験は途中で一時停止することができ、再開後は特定の加熱ステージを選択して続行することができます。
・昇温速度はPVとSVの間で均一なランプを採用し、設定時間内に均一な速度で目標温度に到達します。
●温度制御はボタンひとつで同時加熱、個別加熱制御が可能です。
・サンプルゾーンと触媒ゾーンには、それぞれ少なくとも 20 個の異なるサンプルプロファイルを保存でき、プロファイル名は編集可能です。各プロファイルには少なくとも 30 の加熱ステージを含めることができます。

真空シール：
· 標準: 4 組のステンレス鋼真空フランジと高温シリコン シール リング、スナップオン クイック リリース設計 (クイック フランジ)
・オプション：より高い真空度をより早く得るために、KF25ステンレス鋼フランジ、ステンレス鋼ベローズ、デジタル真空表示ゲージの使用をお勧めします。

ステンレス鋼フランジ:

4*1 ステンレス鋼真空フランジ、両端に入口/ガス充填、一端にガス出口:

(1) サンプル入口端、ガス入口 (窒素および酸素) 用の 2 本の 6 mm チューブ (フェルール付き)、ガス流量計ディスプレイを装備

(2) テストされるサンプルの端には、ガス充填 (酸素) 用の 6 mm チューブ (フェルール付き) 1 本と、ガス出口 (テストされるサンプル) 用の 10 mm チューブ 1 つが装備されています。触媒の添加を容易にするために、6mmのチューブガス充填パイプは石英チューブの中央のフランジの中心になければなりません